单温区管式炉
单温区管式炉:温度可调区间为室温至1200℃,配有流量仪、气源、真空及冷却系统,可用于化学气相法沉积薄膜。流量仪可用于调节进气的种类和流量。选择合适的气源可用于沉积特定的薄膜。开启真空系统可实现低压反应,关闭真空系统可进行常压反应。冷却系统可实现高温反应时对石英管的冷却。
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